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アークイオンプレーティング
アークイオンプレーティングでは、真空チャンバー内で電極と正電圧を加えられたターゲット(アークカソード)の間にアークを発生させます。そして、そのアークを起点に、ターゲットを高イオン化し、チャンバー内で窒素やエチレンといったガスと反応させて基板上に窒化物、カーバイド、炭窒化物を形成します。スパッタリングよりも成膜レートが高く、ハードコーティング、トライボコーティング、装飾コーティングにおける標準的なプロセスとなっています。
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製品例:
  • 高融点金属(Crやその他合金)
  • アルミニウム合金( TiAl, AlCr その他各種組成)

製品リンク

スパッタリングターゲット
板、チューブなど、仕様に合わせて製造。
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